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JETRO 第六回 日中商標制度シンポジウム（2024年6月27日開催）
| 日 時 | 2024年6月27日（木）14：30～18：35 ※日本時間 |
|---|---|
| 会 場 | １．オンライン（Zoom） ２．中国北京会場（北京長富宮飯店） |
| プログラム | ■開幕挨拶 徐建宏氏（中国国家知識産権局 商標局 一級巡視員） 馬夫氏（中華商標協会会長） 根岸克弘氏（日本国特許庁 商標課 課長） ■日本の商標制度及び審査実務に関する最新動向 佐々木悠源氏（日本国特許庁商標課 商標制度企画室 課長補佐） ■中国商標制度に関する最新動向 胡安琪氏（中国国家知識産権局 条法司条法二処 処長） ■中国商標審査実務の最新動向 覃莎莎氏（中国国家知識産権局 商標局審業管理処 副処長） ■情報提供制度の説明およびその利用例の紹介 小林稜氏（日本国特許庁商標課 商標制度企画室 商標企画専門官） ■中国商標共存実務の現状 王逸奇氏（上海専利商標事務所有限公司 弁護士） ■最新の法改正で導入したコンセント制度の紹介 佐々木悠源氏（日本国特許庁商標課 商標制度企画室 課長補佐） ■質疑応答 ■閉幕式 太田良隆氏（日本貿易振興機構北京代表処 知的財産権部 部長） |
| 参加費 | 無料（事前参加申込制） |
| 参加申込 | こちらをクリックして、参加登録フォームよりお申込みください。 |
